一、时间地点

1、时间：2010年7月8日下午13:30

2、地点：材料所A3楼会议室

 

二、报告人及报告题目

李金龙—钕铁硼表面磁控溅射沉积防护薄膜研究

汪金芝—Bi0.95La0.05FeO3与SiOx基薄膜的电致电阻转变效应研究

陈 亮—贵金属表/界面气体吸附及催化反应的计算研究

 

三、考评小组

组长：刘新才

成员：崔 平、陈建敏、戴 宁、宋振纶、李润伟、许高杰、宋伟杰、

闫阿儒、刘兆平、杨 晔（兼秘书）

 

 

　　　　　　　　请各位评委和报告人准时出席。欢迎其他感兴趣同志参会。

 

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　  人力资源部

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　  2010年7月6日